高真空超洁净气氛炉 HITSemi-VAF-1500

高真空超洁净气氛炉集真空抽气系统、真空炉膛、温度控制系统、气路系统、压力保护系统为一体。炉衬使用多层钨钼金属反射屏制作而成。

所属分类：

PVD/CVD 科学仪器

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产品描述

高真空超洁净气氛炉集真空抽气系统、真空炉膛、温度控制系统、气路系统、压力保护系统为一体。炉衬使用多层钨钼金属反射屏制作而成。
采用钨片为加热元件；是专为高等院校、科研院所的实验室及工矿企业对陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、新材料开发、特种材料、建材、金属、非金属及其它化合物材料进行烧结、融化、分析、生产而研制的专用设备。

主要特点
本产品采用可靠的集成化电路，工作环境好，抗干扰。
最高温度时炉体外壳温度≤40°C，大大提高了工作环境。
微电脑程序控制，全自动升温/降温，运行中可以修改控温参数及程序，灵活方便、操作简单。
具有正负压显示，炉膛超压保护、超温保护，水流水压水温保护，断偶保护。

技术参数

产品型号	HITSemi-VAF-1500
温度控制系统	长期工作温度：1400°C（可选配，1600°C）
	控制范围：50°C~1800°C
	控温精度：±1°C（集成化电路控制，无超调现象）
	炉内温场均匀度：±2°C（根据加热室大小而定）
	升温速率：可自由调节，范围：最快升温速率每分钟20°C（非线性）、最慢升温速率每小时1°C（非线性）
炉膛	炉膛尺寸（有效热场）：300mm × 200mm × 200 mm
	发热元件：高纯金属钨片（禁止在800°C以上通入N₂）
	发热元件安装位置：鼠笼式结构
	隔热保温：炉膛内采用10层反射屏（3层钨、2层钼、2层310S、3层304）
炉体结构	炉体结构：304不锈钢水冷双层炉体结构，保证良好工作环境
炉体结构	炉体外壳温度：长期使用不停炉，外壳温度小于45°C（有水温检测）
水冷系统	接口：进、排水口设有接口，可直接连接用户循环水系统
	保护：排水管带过压保护;停水时声光报警和互锁装置启动，同时开启紧急冷却水
	冷水机（可选配）
真空系统	极限真空度：6×10^-4 Pa（空炉冷态洁净）
真空系统	工作真空度：6×10^-3 Pa（空炉洁净）
真空机组	分子泵+机械泵（可选配，干泵）
气路系统	可通气体：Ar、H₂
气路系统	充气系统：加热过程中可调节真空度
控制形式	半自动/全自动
控制系统	PLC+触摸屏

设备工作条件

供电	三相五线制，AC 380V，50Hz；90KVA（设备供电由两路组成，一路系统供电，一路加热供电）
功率	60KW
冷却水	≤100L/min
水压	0.1Mpa~0.15MPa
水温	18℃～25℃
气动部件供气压力	0.5MPa～0.7MPa
质量流量控制器供气压力	0.05MPa～0.2MPa
工作环境温度	10℃～40℃
工作环境湿度	≤50%

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