藏在医疗影像中的“镀膜黑科技”

提到医疗影像,大家都不陌生,如CT、PET-CT检查等,当这些设备在发挥作用时,其核心器件上一层纳米级精密薄膜,正决定着影像的清晰度、灵敏度。而这层薄膜,离不开一项隐形“镀膜黑科技”——磁控溅射技术。

2026/04/08

物理气相沉积技术(PVD)原理、分类及应用

物理气相沉积(Physical Vapor Deposition, PVD)是一种在真空环境下,通过物理手段将靶材转化为气态原子、分子或离子,并使其在基体表面沉积形成薄膜的先进表面工程技术。自20世纪初发展至今,PVD技术因其环保、成本可控、耗材少、膜层致密均匀、膜基结合力强等优势,已成为现代增材制造与功能涂层领域的重要技术。 PVD可按需制备具有耐磨、耐腐蚀、导电、绝缘、压电、磁性等特性的功能薄膜,广泛应用于机械、电子、建筑、医疗等多个行业。

2026/01/13

TGV玻璃通孔技术取得重要突破,应用前景持续拓展

近日,TGV(Through Glass Via,玻璃通孔)技术在材料加工与微纳制造领域取得显著进展,引发半导体、先进封装及新兴电子器件行业的高度关注。凭借其优异的电学性能、高频特性及三维集成能力,TGV正成为下一代高密度互连关键技术之一。

2026/01/05

薄膜沉积设备

薄膜沉积设备分类薄膜沉积是指在硅片等衬底上沉积待处理的薄膜材料,所沉积薄膜材料主要是二氧化硅、氮化硅、多晶硅等非金属以及铜等金属,沉积膜可为无定形、多晶的或者单晶。

2025/04/30

半导体制造及先进封装持续升温

得益于政策的有力支持、行业周期性的变化、创新驱动的增长以及国产替代的加速推进,从IC设计到晶圆制造、封装测试,再到设备材料等多个细分领域,国产化率实现了显著提升,标志着我国半导体产业正朝着自主可控的方向稳步迈进。

2025/02/27

鹏城半导体玻璃基板TGV技术助力先进封装

在先进封装领域中,无论是2.5D封装中的interposer 还是3D封装中都要用到TSV,但是最近很多人都听说玻璃通孔(Through Glass Via,TGV)这个词。玻璃通孔(TGV)潜能巨大,未来可能将是先进封装技术中的常客。本文将简要描述玻璃通孔(TGV)在先进封装的应用及发展趋势以及工艺简介。

2025/02/17

真空镀膜机设备原理

真空镀膜机是一种先进的表面处理技术设备,它能够在各种材料表面形成一层或多层薄膜,赋予基材新的性能,如提高耐磨性、耐腐蚀性、光学性能等。真空镀膜机的工作原理主要基于物理气相沉积(PVD)技术,涉及真空技术、热蒸发、溅射等多种物理过程。

2024/11/28

等离子镀膜仪的特点与功能优势

等离子镀膜仪是一种表面处理装备,具有广泛的应用领域和重要的功能优势。它主要用于表面涂覆和改性处理。通过将材料暴露在等离子体环境中,利用离子轰击和反应沉积的机制,可实现对材料表面的改性和涂覆。这项技术在各个行业都有广泛的应用,例如电子、光电、医疗、汽车等领域。

2024/08/12

磁控溅射镀膜仪的用途与注意事项

磁控溅射镀膜仪(PVD镀膜设备)是一种常见的表面镀膜设备,是在真空条件下利用蒸发或溅射在基体表面沉积薄膜的技术,制备金属、合金、化合物、半导体、陶瓷、介质复合膜及其它化学反应膜等,适用于镀制各种单层膜、多层膜、掺杂膜及合金膜,可镀制磁性材料和非磁性材料。广泛应用于电子、光电、光学、医疗等行业。为了确保其正常使用并获得良好的镀膜效果,以下是使用磁控溅射镀膜仪时需要注意的一些细节和技巧。

2024/07/29

热丝化学气相沉积(HFCVD)金刚石涂层设备厂家《地震资讯》

金刚石作为超宽带隙半导体材料,具有高载流子迁移率、高热导率、高击穿电场、高载流子饱和速率和低介电常数等优异物理特性,被认为是制备下一代高功率、高频、高温及低功率损耗电子器件的“终极半导体”。

2024/07/22

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