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鹏城半导体亮相聚焦“卡脖子”和“前沿必争”领域-2025中国材料大会

发布时间：

2025-06-24

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“中国材料大会2025”：作为新材料领域国家级学术品牌大会，面向国家重大需求，汇聚最权威的专家学者和国家级战略科技力量，聚焦“卡脖子”领域和“前沿必争”领域的关键突破，推动高端学术研讨，解决行业发展中重大共性问题和新兴产业推进中重大难题，抢占全球新材料发展的学术制高点，形成体系化国家级战略布局，为推动我国新质生产力建设打造坚实的物质基础与保障。

“中国材料大会2025”：作为新材料领域国家级学术品牌大会，面向国家重大需求，汇聚最权威的专家学者和国家级战略科技力量，聚焦“卡脖子”领域和“前沿必争”领域的关键突破，推动高端学术研讨，解决行业发展中重大共性问题和新兴产业推进中重大难题，抢占全球新材料发展的学术制高点，形成体系化国家级战略布局，为推动我国新质生产力建设打造坚实的物质基础与保障。
“中国材料大会2025”将于7月5日至8日在福建省厦门国际会展中心举行。

届时鹏城半导体技术（深圳）有限公司（以下简称“鹏城半导体”）将携前沿薄膜沉积设备及技术解决方案在C3094展台亮相。基于纳米与原子制造的PVD/CVD技术，用于高质量的薄膜制备。例如，用磁控溅射技术进行单晶薄膜制备，将磁控溅射用于分子束外延的束流源等。

真空镀膜技术广泛应用于电子、光学仪器、医疗器械、新能源、照明、汽车、机械设备、航天等多个领域。例如，在电子行业中，真空镀膜技术用于制备半导体器件、微电子器件、反射镜面、绝缘保护涂层、高温传感器等。此外，真空镀膜技术还能提升基体的物理性能、化学性能和使用寿命，且对环境污染小。
鹏城半导体主要专注于产品提升，优化迭代，提升技术门槛，深入挖掘用户的需求，解决行业的痛点难点；在产品原理方法分类产品覆盖PVD物理气相沉积、CVD化学气相沉积、分子束外延薄膜生长设备MBE。
鹏城半导体采用双轮驱动模式，工艺与设备相互迭代，相互促进，使设备生产的材料，优化到更好的水平，提高了竞争力。更具体地：⑴、将磁控溅射技术提高到超高真空级别，在超级洁净的背景下，用PVD技术，外延生长氮化镓单晶。⑵、包括但不限于解决了热丝CVD中热丝较多时，热丝之间容易产生黏连的问题，解决了长时间使用断丝的问题，开发了大尺寸金刚石多晶晶圆片生长工艺。
总之，鹏城半导体将在中国材料大会2025上展示其在“卡脖子”和“前沿必争”领域的最新突破。我们期待与业界同仁共同交流、合作，共同推动半导体产业的持续发展。

生产型 TGV/TSV /TMV 高真空磁控溅射镀膜机

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