展会邀请丨鹏城半导体诚邀您莅临2025中国材料大会!


发布时间:

2025-07-01

“中国材料大会2025”将于2025年7月5-8日在福建省厦门国际会展中心举行,大会预计规模30000人,拟设115个国内(际)分会,涵盖能源材料、环境材料、先进结构材料、功能材料、材料设计制备与评价等5大类主题;同时开设一批特色论坛,包括青年论坛、特色新材料论坛、材料教育论坛、材料期刊论坛等,除此之外,还同期举行国际新材料科研仪器与设备展览会等。

一、会议介绍

“中国材料大会2025”将于2025年7月5-8日在福建省厦门国际会展中心举行,大会预计规模30000人,拟设115个国内(际)分会,涵盖能源材料、环境材料、先进结构材料、功能材料、材料设计制备与评价等5大类主题;同时开设一批特色论坛,包括青年论坛、特色新材料论坛、材料教育论坛、材料期刊论坛等,除此之外,还同期举行国际新材料科研仪器与设备展览会等。

二、展位信息

鹏城半导体将携基于纳米与原子制造的PVD/CVD技术,用于高质量的薄膜制备。例如,用磁控溅射技术进行单晶薄膜制备,将磁控溅射用于分子束外延的束流源等,前往参会。展馆号:C3馆,展位号:C3094,欢迎大家莅临指导,技术交流。

三、主推产品

*  用磁控溅射技术进行单晶薄膜制备,将磁控溅射用于分子束外延的束流源

*  磁控溅射技术解决深径比高于10:1的微孔镀膜

* 大尺寸金刚石多晶晶圆片,用于大功率器件、高频器件及大功率激光器的散热热沉

* 采用单频或双频等离子增强型化学气相沉积技术,是沉积高质量的氮化硅、氧化硅等薄膜的理想工艺设备

分子束外延薄膜生长设备(MBE)

生产型 TGV/TSV /TMV 高真空磁控溅射镀膜机

生产型 高真空磁控溅射/离子辅助/多弧复合镀膜机

生产型 高真空磁控溅射及离子辅助复合镀膜机

科研型 高真空磁控溅射镀膜机

HFCVD 热丝化学气相沉积设备

PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备

四、鹏城半导体技术(深圳)有限公司

鹏城半导体技术(深圳)有限公司,由哈尔滨工业大学(深圳)与有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。公司立足于技术前沿与市场前沿的交叉点,寻求创新引领与可持续发展,解决产业的痛点和国产化难题,争取产业链的自主可控。

鹏城微纳技术(沈阳)有限公司是鹏城半导体技术(深圳)有限公司全资子公司,是半导体工艺和装备的设计中心和生产制造基地。

公司核心业务是微纳技术与高端精密制造,具体应用领域包括半导体材料、半导体工艺和半导体装备的研发设计、生产制造、工艺技术服务及半导体装备的升级改造,可为用户提供工艺研发和打样。

公司人才团队知识结构完整,有以哈工大教授和博士为核心的高水平材料研究和工艺研究团队;还有来自工业界的高级装备设计师团队,他们具有20多年的半导体材料研究、外延技术研究和半导体薄膜制备成套装备设计、生产制造的经验。

公司依托于哈尔滨工业大学(深圳),具备先进的半导体研发设备平台和检测设备平台,可以在高起点开展科研工作。公司总部位于深圳市,具备半导体装备的研发、生产、调试以及半导体材料与器件的中试、生产、销售的能力。

五、会展中心交通示意图

六、论坛活动

 

新闻中心

磁控溅射技术在医疗影像关键器件核心薄膜制备中的应用

在现代医疗影像技术的持续演进中,磁控溅射技术已成为薄膜制备领域的核心工艺,广泛应用于医疗影像关键器件的制造过程。

物理气相沉积技术(PVD)原理、分类及应用

物理气相沉积(Physical Vapor Deposition, PVD)是一种在真空环境下,通过物理手段将靶材转化为气态原子、分子或离子,并使其在基体表面沉积形成薄膜的先进表面工程技术。自20世纪初发展至今,PVD技术因其环保、成本可控、耗材少、膜层致密均匀、膜基结合力强等优势,已成为现代增材制造与功能涂层领域的重要技术。 PVD可按需制备具有耐磨、耐腐蚀、导电、绝缘、压电、磁性等特性的功能薄膜,广泛应用于机械、电子、建筑、医疗等多个行业。

TGV玻璃通孔技术取得重要突破,应用前景持续拓展

近日,TGV(Through Glass Via,玻璃通孔)技术在材料加工与微纳制造领域取得显著进展,引发半导体、先进封装及新兴电子器件行业的高度关注。凭借其优异的电学性能、高频特性及三维集成能力,TGV正成为下一代高密度互连关键技术之一。

金刚石:超越现有半导体材料的潜力,未来应用领域更广

金刚石之所以被用来作为半导体材料,甚至被一些学者誉为“终极半导体材料”“终极室温量子材料”。源于其独特的物理和化学性质。金刚石是一种超宽禁带半导体,拥有优异的电学、光学、力学、热学和化学特性,这些特性使得金刚石在众多领域具有广泛的应用前景。

鹏城半导体:一家高科技企业的战略、战术与生存之道

第十五届中国国际纳米技术产业博览会(简称“纳博会”)在万众瞩目中圆满落下了帷幕。本届大会组织了1场主报告、15场分论坛,分享前沿报告605场,以及1场创新创业大赛、3场供需对接会,汇聚了150余位国家级人才,500余位国内外高校院所、企业机构的顶级专家。展区面积25000㎡,吸引全球350余家顶尖企业与机构参展,展示全球纳米技术领域最新技术产品和创新应用2400多件。三天累计到场参与总人次近2.75万人次,大会规模创下历史之最,影响力攀升至新高度。