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真空高温CVD炉


真空高温CVD 炉采用高温化学气相沉积的方法,在工件表面沉积各种薄膜,在半导体工业中应用非常广泛,包括沉积大面积的绝缘材料,以及大多数金属材料和金属合金材料,例如:碳化钽涂层、碳化硅涂层材料。

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台风资讯|HFCVD——大尺寸金刚石薄膜沉积


大尺寸金刚石薄膜是实现规模化工业应用的关键,而HFCVD热丝化学气相沉积技术,正是目前制备大尺寸金刚石薄膜最主流、最高效的工业化方案。

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