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CVD 化学气相沉积设备

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MOCVD 金属有机化学气相沉积设备

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MOCVD 金属有机化学气相沉积设备

CVD 化学气相沉积设备

LPCVD 低压化学气相沉积设备

LPCVD 低压化学气相沉积设备

LPCVD低压化学气相沉积设备（科研型LPCVD）是在低压高温的条件下，通过化学反应气相外延的方法在衬底上沉积各种功能薄膜（主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜）。可用于科学研究、实践教学、小型器件制造。

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LPCVD

低压化学气相沉积系统

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CVD 化学气相沉积设备

薄膜制备设备

真空高温CVD炉

真空高温CVD炉

真空高温CVD 炉采用高温化学气相沉积的方法，在工件表面沉积各种薄膜，在半导体工业中应用非常广泛，包括沉积大面积的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料，例如：碳化钽涂层、碳化硅涂层材料。

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真空高温CVD炉

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碳化钽

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薄膜制备设备

CVD 化学气相沉积设备

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第27届CIOE中国光博会收官｜鹏城微纳参展回顾

第27届CIOE中国光博会收官｜鹏城微纳参展回顾

2026年9月11日，第27届中国国际光电博览会（CIOE中国光博会）在深圳国际会展中心顺利落幕。鹏城微纳技术（沈阳）有限公司（简称“鹏城微纳”）携公司核心装备（PVD镀膜设备、CVD镀膜设备）及配套工艺解决方案亮相展会现场.

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第27届中国国际光电博览会

CIOE中国光博会

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PVD镀膜设备

CVD镀膜设备

物理气相沉积（PVD）

CVD 化学气相沉积设备

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